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                                  首頁 ? 產品中心 ? PVD鍍膜設備 ? 蒸發鍍膜設備

                                  RH400熱蒸發真空鍍膜設備
                                  編號:SN20151013154133273
                                  類別:蒸發鍍膜設備
                                  • 產品概述
                                  • 規格參數
                                  • 服務支持

                                    設備用途

                                        用于有機半導體材料的物理化學性能研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗、OLED實驗研究及有機太陽能薄膜電池實驗研究??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

                                     

                                    設備組成

                                        該系統主要由真空室腔體組件、盒式熱阻蒸發舟及電源、Filtech膜厚監測儀、樣品臺、真空本底抽氣與真空測量、真空室照明裝置、烘烤裝置、機架及電控柜等組成。

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