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                                  產品中心

                                  首頁 ? 產品中心 ? PVD鍍膜設備 ? 磁控濺射鍍膜系統

                                  LLTRP-450型雙室磁控濺射系統
                                  編號:SN20151013152717477
                                  類別:磁控濺射鍍膜系統
                                  • 產品概述
                                  • 規格參數
                                  • 服務支持

                                    設備用途

                                        用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。


                                    設備組成

                                        系統主要由濺射真空室、進樣室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。

                                     

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